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        真空濺射離子鍍膜(PVD)服務商

        致力于高端涂層技術的研究提供成套解決方案

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        什么是PVD真空鍍膜

        時間:2022-07-28    點擊數:

        眾所周知,鍍膜的工藝有很多種類,有常見的電鍍法、氧化法,還有氣相生成法、離子注入法、擴散法、涂布法、液相生成法等。

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        其中氣相生成法又可分為物理氣相沉積法、化學氣相沉積法和放電聚合法。

        PVD工藝就是物理氣相沉積法,由于這種工藝都是在真空環境下進行的,因此也稱為這空離子鍍膜技術。

        PVD鍍膜技術,是指在真空環境下,采用低電壓,大電流的電弧放電技術轟擊靶材,利用氣體放電,使靶材蒸發,蒸發物質與氣體都發生電離子作用,利用電場加速,使被蒸發的物質及其反應產生的物質沉積在工件上面。


        本文網址:http://m.mzxfhb.com/news/578.html

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